可以把这个提问了解成“ 一国造的光刻机如今到达多少纳米了 ”，回答时天但是然地与一个存在于中国的理想L系起来。
齐全可以定义为：“ 一个国度不得不也不能不禁自己制造的零件和部件技术与产品都到达自主的光刻机 ”，其中，“一个国度”即中国，“零件和部件技术与产品都到达自主的光刻机”包含低、中、上流、顶级的。毫无不懂，中国不得不自己制造光刻机的部件和零件，在经济、技术和制造环球化的过去和当天， 这已是一个奇怪、共同的现象 ，曾经合力造入环球顶级光刻机的多个国当中的哪个国都不用像中国这样，中国，不只被扫除在那个“制造圈”之外，还被那多个国重重围堵、步步紧逼，被片面封闭技术至少开局于1996年，连低端光刻机的零部件居然也被那多个国断供则是在2007年，如今是连 1 个上流的“引进消化排汇再翻新”对象都没有，中国最顶尖的光刻机零件和部件制造企业不只低端、中端、上流光刻机零件和部件的技术与产品都得自己研发、自己制造，还都得在零件行将造进去之前面临着、接受住国外大卖同一个端成品即市场份额被提早抢占的情势和压力，国际芯片制造企业包含最顶尖的也真的就花大钱大买啊！
当然，也是不得不、不能不，齐全可以了解，包含了解他们一同抱憾不能更早地买到，还包含了解最顶尖的国际芯片制造企业至今仍在遗憾不能买到那台下了订单的比DUV光刻机贵得多的EUV上流光刻机； 这也是一个既有、独有的理想 ，技术被封闭便、才自研，部件被断供便、才自造，中国的光刻机制造企业在2016年造出了低端、自主的光刻机，如今曾经把握了中端制造技术，中端、自主的光刻机将很快推出。 作为一个现象，是临时的，当然又是常年的 ，只要在中国本天然出的光刻机也到达了上流以及环球顶级这个新的理想出现时才会隐没，以致永远隐没； 作为一个理想，是无法能被扭转的，在中国必将永续 ，中国的光刻机制造企业必然矢志不渝地努力于冲破多个国的技术封闭和产品阻挡，最终成功上流技术自供和上流产品自造，直至培育出一个新的环球顶级。其实， 多个国雷同早就很分明这个现象存在的临时性和这个理想出现的偶尔性 ，早就领教过新中国是怎样看待封闭和阻挡的嘛，见过的组织冲破封闭和顶住阻挡的事也曾经足够多，倒是也知道有一些中国企业特意是其所内行业不长忘性、“不计前嫌”，不能矢志不渝地承袭自主研发、自主翻新的传统，甘心不时走以及丢弃走技工贸的路途，也就知道依然封闭技术、提早大卖成品真能、就能奏效，屡试不爽。
在2021年的如今， 中国一国造的光刻机技术到达28纳米了，28纳米的中端零件产品也曾经有了 ，只是还没有下线、量产，你只可以说还不是理想可用的28纳米零件成品，但齐全可以说中端零件和部件制造技术曾经全都是自主领有的， 让中国如今的中端芯片消费线上九大关键工艺设施都到达了中端自主的技术水平，全了、齐了！关键是技术难度最高的光刻机不再是中端芯片消费线上的技术短板了，还成为了自主水平最高的一块！
于是便可以说中端光刻机零件产品自供和他供——供应国际和国外——都必将是中国全体自主的 。其中的供应国外是以自主化而非国产化、更非“国制化”（模拟买来的国外部件和零件制造出成品），以史无前例的姿态和笼统融入环球化！无疑是一个崭新的现象。何况， 没有国际光刻机制造企业曾经自主领有技术这个理想的话，就无法能有国际芯片制造企业提早买来荷兰ASML的DUV中端光刻机这个惯常的现象 ，多个国不也是不得不、不能不吗？！ 关键的是，国际芯片制造企业自用起来安保无忧 ，中芯国际买来、用上之后可安心大胆地扩展28纳米的产能、消费良品率达不到业界规范的7纳米国产芯片， 并让国际芯片设计企业无后顾之忧 ，不会重蹈华为海思的覆辙，显然， 如今的多少纳米是真正意义上的国产，国产由于如此的自主可控变得如许的纯正，又是如许关键、如许牢靠的中端技术基础和中端自主基础，可让国际光刻机部件制造和零件集成企业恬然自若、底气十足地迈向上流自主这个新的台阶 。